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微纳加工系统
微纳加工系统

高分辨率3D打印系统

适用范围

主要特征 1.具有 100 nm 特征尺寸控制的高速高分辨率 3D 微纳加工 2.广泛的基板和晶圆,最大可达 8 英寸 3.工业批量处理:200 种典型的中尺度结构可在一夜之间打印 4.通过花岗岩基层和减振实现高机械和热稳定性 5.个性化定制系统,适用于广泛应用,是多用户设施的理想选择

产品特点

技术特点概要

· 快速原型制作,高精度,高设计自由度,简易明了的工程流程

· 工业验证的晶圆级批量生产

· 200 个典型中尺度结构的过夜打印量

· 使用全新XLF打印套件,一次实现打印30立方厘米部件

· 广泛的特定应用和通用打印材料

· 模块化、可定制的系统

全国服务热线 021-3463-5258

标准参数

表面粗糙度 (Ra) ≤ 5 nm 
最小特征尺寸1 100 nm
形状准确度 ≤ 200 nm
批量生产200个标准结构的通宵产量
Single print field diameterup to ≥ 4,000 µm
最大扫描速度6.25 m/s/透镜放大倍数2

系统基本特征

打印技术基于双光子聚合的逐层3D打印
具有体素调节能力的双光子灰度光刻
基片显微镜载片(3” x 1” / 76 x 26 mm2)
硅片,1” (25.4 mm) 到 8” (200 mm)
玻璃、硅及其他不透明材料
光刻胶Nanoscribe IP胶 (聚合物打印)
Nanoscribe GP-Silica胶(玻璃打印)
兼容第三方及各类自主材料
最大打印面积50 x 50 mm²

提供的数据可能因光刻胶及几何形状而有不同
1 各空间方向上100nm的特征尺寸可控
2 e.g. 10倍物镜放大倍率:625nm/s

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