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荷兰ISTEQ等离子体EUV光源 TEUS系列 极紫外光源
荷兰ISTEQ等离子体EUV光源 TEUS系列 极紫外光源

荷兰ISTEQ等离子体EUV光源 TEUS系列 极紫外光源

产品简介

激光等离子体(LPP - LASER PRODUCED PLASMA)技术

13.5纳米EUV极紫外光源产品——TEUS系列,高亮度、高稳定性、高运行时间

ISTEQ自从行业确立EUV发展路线以来,便专注于该领域的技术研发,自主开发了基于激光等离子体(LPP - LASER PRODUCED PLASMA)技术的EUV光源,具备超高的亮度与稳定性。该光源采用可刷新燃料设计,运行过程中无需更换燃料盒,无中断补给,显著提升了设备的持续运行时间,为行业带来极高的生产效率。

针对不同应用的光谱需求,ISTEQ定制开发了专用燃料。特别是在掩模检测领域,推出了高频旋转锡靶技术,并已获得全球专利认证。

依托丰富的行业经验与深厚的技术积累,在EUV光源制造方面具备明显优势。ISTEQ的XWS系列光源,专为多种高端应用场景量身打造,包括光谱分析、高分辨率显微成像、薄膜测量与表面计量等。这一系列产品采用全球领先技术,并已获得国际专利保护。

 

产品介绍:

ISTEQ专注于激光等离子体(LPP - LASER PRODUCED PLASMA)EUV极紫外光源技术,推出TEUS系列13.5纳米光源,具备超高亮度、极高稳定性及可刷新燃料设计,显著提升设备稼动率。独创的高频旋转锡靶技术获全球专利,广泛应用于光谱分析、高分辨率显微成像与表面计量等领域。

产品特点

产品特点:                                 

  • 超高亮度(高通量输出)
  • 超高稳定性
  • 碎片量极小
  • 设备稼动率极高
  • 具备高占空比,即插即用式操作体验
  • 用户友好,自动化流程
  • 保障系统安全、稳定、无中断运行

 产品应用:

  • 掩模与表面检测应用
  • 图形掩模检测(PMI)
  • 面域掩模检测(AIMS)
  • 掩模基板检测(MBI)
  • EUV扫描光学链检测
  • 材料科学研究
  • 晶圆检测

全国服务热线 021-3463-5258

产品参数:

TEUS系列EUV光源 光学表征
激光平均功率 TEUS S-100 TEUS S-200 TEUS S-400
脉冲重复频率 100W 200W 400W
EUV功率立体角 25kHz或70kHz (Maximum) 50kHz或135kHz (Maximum) 100kHz或200kHz (Maximum)
等离子体尺寸 0.05sr 0.05sr 0.05sr
带内辐射转换效率(13.5 nm±1%) ≤ 60或≤ 40 ≤ 60或≤ 40 ≤ 60或≤ 45
碎片处理系统后角内光通量mW 2 % @2π·sr或

1.6% @2π·sr​

2 % @2π·sr或

1.6% @2π·sr​

2 % @2π·sr或

1.6% @2π·sr​

碎片抑制系统后、收集角内的带内EUV通量 11 mW或9 mW​ 22 mW或18 mW​ 44 mW或40 mW​
碎片抑制系统后、带内光谱亮度 ≥ 80 W/mm2·sr或≥ 140 W/mm2·sr​​ ≥ 160 W/mm2·sr或≥ 280 W/mm2·sr​​ ≥ 310 W/mm2·sr或≥ 500 W/mm2·sr​​
等离子体稳定性 3% RMS 3% RMS 3% RMS
光源使用寿命(以下数据均为24/7连续运行模式下)
无特殊膜滤光片,集光器性能下降10%的寿命 至少8个月 至少4个月 至少2个月
有特殊膜滤光片,集光器性能下降10%的寿命 至少8个月 至少9个月 至少4个月
常规维护周期 4个月-1天 3个月-2天 2个月-1天
电源及使用要求
电源 6.5 kW 8.5 kW 10.5 kW
尺寸 1500×1000×1200 mm 1500×1000×1200 mm 1500×1000×1200 mm
重量,包括激光器组件 770 Kg 770 Kg 770 Kg
环境洁净度等级 ISO7​ ISO7​ ISO7​
冷却水流速 10 L/min 15 L/min 25 L/min

 

 

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