全站搜索
Search the entire website
Search the entire website
产品简介
激光等离子体(LPP - LASER PRODUCED PLASMA)技术
13.5纳米EUV极紫外光源产品——TEUS系列,高亮度、高稳定性、高运行时间
ISTEQ自从行业确立EUV发展路线以来,便专注于该领域的技术研发,自主开发了基于激光等离子体(LPP - LASER PRODUCED PLASMA)技术的EUV光源,具备超高的亮度与稳定性。该光源采用可刷新燃料设计,运行过程中无需更换燃料盒,无中断补给,显著提升了设备的持续运行时间,为行业带来极高的生产效率。
针对不同应用的光谱需求,ISTEQ定制开发了专用燃料。特别是在掩模检测领域,推出了高频旋转锡靶技术,并已获得全球专利认证。
依托丰富的行业经验与深厚的技术积累,在EUV光源制造方面具备明显优势。ISTEQ的XWS系列光源,专为多种高端应用场景量身打造,包括光谱分析、高分辨率显微成像、薄膜测量与表面计量等。这一系列产品采用全球领先技术,并已获得国际专利保护。
产品介绍:
ISTEQ专注于激光等离子体(LPP - LASER PRODUCED PLASMA)EUV极紫外光源技术,推出TEUS系列13.5纳米光源,具备超高亮度、极高稳定性及可刷新燃料设计,显著提升设备稼动率。独创的高频旋转锡靶技术获全球专利,广泛应用于光谱分析、高分辨率显微成像与表面计量等领域。
产品参数
Product Parameter
产品参数:
TEUS系列EUV光源 光学表征 | |||
激光平均功率 | TEUS S-100 | TEUS S-200 | TEUS S-400 |
脉冲重复频率 | 100W | 200W | 400W |
EUV功率立体角 | 25kHz或70kHz (Maximum) | 50kHz或135kHz (Maximum) | 100kHz或200kHz (Maximum) |
等离子体尺寸 | 0.05sr | 0.05sr | 0.05sr |
带内辐射转换效率(13.5 nm±1%) | ≤ 60或≤ 40 | ≤ 60或≤ 40 | ≤ 60或≤ 45 |
碎片处理系统后角内光通量mW | 2 % @2π·sr或
1.6% @2π·sr |
2 % @2π·sr或
1.6% @2π·sr |
2 % @2π·sr或
1.6% @2π·sr |
碎片抑制系统后、收集角内的带内EUV通量 | 11 mW或9 mW | 22 mW或18 mW | 44 mW或40 mW |
碎片抑制系统后、带内光谱亮度 | ≥ 80 W/mm2·sr或≥ 140 W/mm2·sr | ≥ 160 W/mm2·sr或≥ 280 W/mm2·sr | ≥ 310 W/mm2·sr或≥ 500 W/mm2·sr |
等离子体稳定性 | 3% RMS | 3% RMS | 3% RMS |
光源使用寿命(以下数据均为24/7连续运行模式下) | |||
无特殊膜滤光片,集光器性能下降10%的寿命 | 至少8个月 | 至少4个月 | 至少2个月 |
有特殊膜滤光片,集光器性能下降10%的寿命 | 至少8个月 | 至少9个月 | 至少4个月 |
常规维护周期 | 4个月-1天 | 3个月-2天 | 2个月-1天 |
电源及使用要求 | |||
电源 | 6.5 kW | 8.5 kW | 10.5 kW |
尺寸 | 1500×1000×1200 mm | 1500×1000×1200 mm | 1500×1000×1200 mm |
重量,包括激光器组件 | 770 Kg | 770 Kg | 770 Kg |
环境洁净度等级 | ISO7 | ISO7 | ISO7 |
冷却水流速 | 10 L/min | 15 L/min | 25 L/min |
产品推荐
Recommendation
很遗憾,没有找到您的信息
Online Message