MLA 100 无掩模光刻仪

MLA 100 无掩模光刻仪

产品介绍

MLA100 无掩模光刻

 

     

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以实惠的价格,重点是高性能设计,MLA100是许多研发应用的完美光刻方案。该光学系统被设计以50平方毫米/分钟直接进入光致抗蚀剂的速度来写结构下降到1微米,而无需光掩模。光掩模从光刻工艺消除会增加灵活性和显著缩短成型或制造周期。该MLA100由曝光向导(GUI)控制通过完整的程序引导操作员来操作:加载基底,选择设计和开始曝光。随着60x1875px²的足迹MLA100的设计,以适应甚至到最小的研发实验室,并且只需要操作提供电源和压缩空气。

 

MLA100应用领域包括生命科学,微机电系统,微光学,半导体,传感器,执行器,微光机电系统,材料研究,纳米管,石墨烯,这任何一项应用都需要微光显示结构

 

主要特征:

写速度 50mm^2/min

最小基板尺寸  6”x  6”

曝光区域 100×100mm^2

最小结构  1um

高功率LED光源

SLM基于光引擎

多种数据输入格式

基本灰度曝光模式

对准摄像系统

实时自动对焦

最优化的曝光向导


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